| 真空热处理对NiCrA1Y薄膜表面高温氧化的影响 |
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| 引用本文： | 李瑶,陈寅之,唐永旭,蒋洪川,刘兴钊.真空热处理对NiCrA1Y薄膜表面高温氧化的影响[J].电子元件与材料,2011,30(11). |
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| 作者姓名： | 李瑶 陈寅之 唐永旭 蒋洪川 刘兴钊 |
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| 作者单位： | 电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室,四川成都,610054 |
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| 摘 要： | 采用直流磁控溅射法在镍基高温合金DZ4上制备了NiCrA1Y薄膜,并对NiCrA1Y薄膜进行真空热处理后再进行高温氧化,以生成一层致密的Al2O3膜,研究了真空热处理对NiCrAlY薄膜表面高温氧化的影响.结果表明:经过真空热处理的NiCrA1Y薄膜,高温氧化后表面生成了单一、稳定的α-Al2O3相,Al和O的粒子数分数分别约为32％和50％；而未经过真空热处理直接氧化的NiCrA1Y薄膜表面含有θ-Al2O3和α-Al2O3两种物相,且分布不均匀.
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| 关 键 词： | NiCrA1Y薄膜 真空热处理 高温氧化 |
Effects of vacuum heat treatment on high temperature oxidation behavior of the surfaces of sputtered NiCrA1Y films |
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| LI Yao,CHEN Yinzhi,TANG Yongxu,JIANG Hongchuan,LIU Xingzhao.Effects of vacuum heat treatment on high temperature oxidation behavior of the surfaces of sputtered NiCrA1Y films[J].Electronic Components & Materials,2011,30(11). |
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| Authors: | LI Yao CHEN Yinzhi TANG Yongxu JIANG Hongchuan LIU Xingzhao |
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