| 脉冲电解制备高纯铜的扩大试验 |
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| 引用本文： | 鲁道荣,陈少华. 脉冲电解制备高纯铜的扩大试验[J]. 安徽化工, 2003, 29(5): 21-22 |
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| 作者姓名： | 鲁道荣 陈少华 |
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| 作者单位： | 合肥工业大学化工学院,230009;合肥工业大学化工学院,230009 |
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| 基金项目： | 安徽省自然科学基金;98625248; |
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| 摘 要： | 选用芜湖冶炼厂的阳极铜,在实验室的中型电解槽内研究脉冲电解制备高纯铜的工艺条件。结果表明,电解温度为30℃时,较适宜的脉冲电解参数为：平均电流密度im=650A/m^2,脉冲宽度ton=6ms,占空比ton:toff=1:1)。经ICP测试表明每克电解铜中杂质As、Sb、Bi、Ni总含量低于10μg。
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| 关 键 词： | 脉冲电解 平均电流密度 占空比 脉冲宽度 |
Expami Experiment on Making High-pure Copper by the Pulse Electrolysis |
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| Lu Daorong Chen Shaohua. Expami Experiment on Making High-pure Copper by the Pulse Electrolysis[J]. Anhui Chemical Industry, 2003, 29(5): 21-22 |
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| Authors: | Lu Daorong Chen Shaohua |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | pulse electrolysis average current density work rate pulse width |
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