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电沉积Ni-W合金镀层的X射线光电子能谱分析
引用本文:王宙,许光宇,王金玉,杨德庄.电沉积Ni-W合金镀层的X射线光电子能谱分析[J].材料保护,2002,35(4):32-33.
作者姓名:王宙  许光宇  王金玉  杨德庄
作者单位:1. 大连大学表面工程中心,辽宁大连,116622
2. 江门市二轻中专学校,广东江门,529020
3. 哈尔滨工业大学应用化学系,黑龙江哈尔滨,150001
4. 哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,黑龙江哈尔滨,150001
摘    要:采用X射线光电子能谱(XPS)对电沉积Ni-W合金镀层表面膜进行了分析。研究结果表明,Ni-W合金镀层表面存在一层薄的氧化膜,而钨的氧化作用远大于镍,Ni-W合金镀层中W含量的提高对耐蚀性起决定作用。

关 键 词:电沉积  Ni-W合金镀层  X射线光电子能谱  镍钨合金
文章编号:1001-1560(2002)04-0032-02

XPS Analyses of Electrodepositing Ni-W Alloy Plating
WANG Zhou\,XU Guang\|yu\,WANG Jin\|yu\,YANG De\|zhuang\.XPS Analyses of Electrodepositing Ni-W Alloy Plating[J].Journal of Materials Protection,2002,35(4):32-33.
Authors:WANG Zhou\  XU Guang\|yu\  WANG Jin\|yu\  YANG De\|zhuang\
Affiliation:WANG Zhou\+1,XU Guang\|yu\+2,WANG Jin\|yu\+3,YANG De\|zhuang\+4
Abstract:Electrodepositing Ni\|W plating was analyzed by means of XPS. Results showed that there was a thin oxide layer on the surface of Ni\|W plating. Tungsten was more easily oxidized than nickel, and W content was essential for corrosion resistant of Ni\|W plating.
Keywords:electrodepositing  Ni\|W alloy plating  XPS
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