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| Ti-44Al-11Nb合金在室温下的原位表面氧化 | |
| 引用本文： | 葛鹏.Ti-44Al-11Nb合金在室温下的原位表面氧化[J].稀有金属快报,2003(12):14-15. |
| 作者姓名： | 葛鹏 |
| 作者单位： | |
| 摘 要： | 该研究的目的是检验Ti -4 4Al -11Nb合金的室温氧化 ,所用仪器为俄歇电子分光仪 (AES)及X射线光电子分光仪 (XPS)。Nb作为第三组元加入是为了提高高温氧化抗力及机械性能。Nb在氧化时的作用是复杂的 ,其可影响的几个因素如下 :Al2 O3和TiO2 膜的化学稳定性及TiNb2 O7的生成 ;氧化皮的物理特性 (孔隙度、附着性 ) ;Al-Nb -Ti三元平衡相。Taylor和Paffett报道了用XPS及二次离子质谱仪 (SIMS)研究γ -TiAl室温到60 0℃的氧化。他们发现在室温有一厚度为0 3nm的TiO2 和Al2 O3混合组成的氧化物。Shanabarger报道α2 -Ti3Al和γ … |
| 关 键 词： | 原位表面氧化 室温 Ti-44Al-11Nb合金 钛合金 |
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