| RF磁控溅射法原位制备C轴择优取向ZnO薄膜 |
| |
| 引用本文： | 程松华,曾祥斌.RF磁控溅射法原位制备C轴择优取向ZnO薄膜[J].半导体光电,2007,28(1):60-63. |
| |
| 作者姓名： | 程松华 曾祥斌 |
| |
| 作者单位： | 华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074;华中科技大学,电子科学与技术系,湖北,武汉,430074 |
| |
| 摘 要： | 采用RF磁控溅射法在玻璃衬底上原位低温生长ZnO薄膜.生长出的薄膜对可见光具有高于90%的透射率,该薄膜具有良好的C轴取向.利用X射线衍射(XRD)的测试结果,分析了溅射工艺条件如衬底温度、氩氧比和溅射气压等对薄膜性能的影响,得到最佳的生长工艺条件为:衬底温度300 ℃,溅射气压1 Pa,氩氧比为25 sccm∶15 sccm.在此条件下生长的ZnO薄膜具有良好的C轴择优取向,并且薄膜的结晶性能良好.采用这种方法制备的ZnO薄膜适合用于制备平板显示器的透明薄膜晶体管和太阳电池的透明导电电极.
|
| 关 键 词： | RF磁控溅射 ZnO薄膜 透明薄膜晶体管 有源矩阵液晶显示器 |
| 文章编号： | 1001-5868(2007)01-0060-04 |
| 修稿时间： | 2006-06-28 |
In Situ Deposition of C-axis Oriented ZnO Thin Films by RF Magnetron Sputtering |
| |
| CHENG Song-hua,ZENG Xiang-bin.In Situ Deposition of C-axis Oriented ZnO Thin Films by RF Magnetron Sputtering[J].Semiconductor Optoelectronics,2007,28(1):60-63. |
| |
| Authors: | CHENG Song-hua ZENG Xiang-bin |
| |
| Affiliation: | Dept. of Electronic Science and Technology, Huazhong University of Science and Technology, Wuhan 430074, CHN |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | RF magnetron sputtering ZnO thin film transparent thin film transistor active-matrix liquid crystal display |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
