偏压对TiBN纳米复合涂层结构及力学性能的影响 |
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引用本文: | 刘怡飞,李助军,李兆南,蔡海鉴,田灿鑫.偏压对TiBN纳米复合涂层结构及力学性能的影响[J].装备制造技术,2019(5). |
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作者姓名: | 刘怡飞 李助军 李兆南 蔡海鉴 田灿鑫 |
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作者单位: | 广州铁路职业技术学院;岭南师范学院 |
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摘 要: | 采用多弧离子镀技术,在单晶硅和硬质合金衬底上制备Ti-B-N涂层,使用XRD,SEM,硬度计和划痕仪系统研究了偏压对TiBN涂层结构、表面形貌、硬度和附着力的影响。在不同的基体偏压下,涂层表现了(111)面择优生长。-100 V偏压时沉积的TiBN涂层表面最平滑。随着基体偏压升高,TiBN涂层硬度逐渐增大,膜基结合力逐渐减小。-200 V制备的TiBN涂层硬度最大3600 HV,-50 V制备的TiBN涂层膜基结合力接近40 N。
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