| 真空退火法对AZO薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 张丽伟,王子健,卢景霄,王海燕,吴芳,李红菊.真空退火法对AZO薄膜的研究[J].真空,2006,43(5):13-15. |
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| 作者姓名： | 张丽伟 王子健 卢景霄 王海燕 吴芳 李红菊 |
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| 作者单位： | 1. 郑州大学物理工程学院,材料物理教育部重点实验室,河南,郑州,450052;新乡师范高等专科学校,河南,新乡,453000
2. 新乡师范高等专科学校,河南,新乡,453000 |
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| 基金项目： | 河南省教育厅科技攻关项目 |
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| 摘 要： | 磁控溅射法在玻璃衬底上制备了AZO(氧化锌掺铝)薄膜。对薄膜进行了真空退火。利用XRD、分光光度计以及四探针等测试装置,对AZO薄膜的晶粒度、透光率和导电性能进行了测试分析。结果表明,退火有利于薄膜结晶;退火有利于薄膜光电性能的提高。在本实验中,AZO薄膜的最高透光率可达90.617%;最低电阻率可达2.21×10-3(Ω.cm)。对比在真空中退火的ITO薄膜的光电性能参数,结果已有所超越。此结果说明,AZO薄膜有潜力成为透明导电膜ITO的替代产品。
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| 关 键 词： | 磁控溅射法 AZO薄膜 退火 光电特性 透过率 |
| 文章编号： | 1002-0322（2006）05-0013-03 |
| 收稿时间： | 2006-01-26 |
| 修稿时间： | 2006-01-26 |
Study on AZO thin films annealed in vacuum |
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| ZHANG Li-wei,WANG Zi-jian,LU Jing-xiao,WANG Hai-yan,WU fang,LI Hong-ju.Study on AZO thin films annealed in vacuum[J].Vacuum,2006,43(5):13-15. |
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| Authors: | ZHANG Li-wei WANG Zi-jian LU Jing-xiao WANG Hai-yan WU fang LI Hong-ju |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | magnetron sputtering process AZO thin film annealing photoe lectricity transmittance |
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