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PIIID技术制备Ti/DLC纳米多层薄膜
作者姓名:解志文  王浪平  王小峰  闫久春  黄磊  陆洋
作者单位:1.哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室
基金项目:国家自然科学基金(50601010,10875033)资助
摘    要:采用等离子体浸没离子注入与沉积(PIII&D)技术在2Cr13钢表面制备了Ti/DLC纳米多层薄膜,分析了膜层的微观结构和机械特性。实验结果表明:纳米多层膜具有完整、清晰的调制层结构,薄膜的显微硬度均得到明显的提高,硬度较低的膜层具有较好的膜基结合强度和优良的摩擦性能,从综合性能看:纳米多层薄膜保持了类金刚石(DLC)薄膜低摩擦系数的特性,具有良好的承载能力以及膜-基结合特性。

关 键 词:等离子体浸没离子注入与沉积  结合强度  纳米多层薄膜
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