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高阻值Cd1-xZnxTe晶体的生长及其性能测试
引用本文:李国强,谷智,介万奇.高阻值Cd1-xZnxTe晶体的生长及其性能测试[J].半导体学报,2003,24(8):833-836.
作者姓名:李国强  谷智  介万奇
作者单位:西北工业大学凝固技术国家重点实验室,西安710072
基金项目:国家自然科学基金;59982006;
摘    要:通过适当的工艺措施,采用Bridgman法生长了直径为30mm的X射线及γ射线探测器级的Cd.9Zn0.1Te晶锭.测试结果表明:该晶锭结晶质量良好,位错密度低,成分均匀,杂质含量低,红外透过率和电阻率都十分接近本征Cd.9Zn0.1Te的值.并从晶体的生长特性、缺陷和杂质的角度,分析了生长高性能晶体的条件,研究了生长Cdl-xZnxTe晶体的x值与缺陷和杂质浓度之间的关系.

关 键 词:Cdl-xZnxTe  布里奇曼法  电阻率  红外透过率  结晶质量
文章编号:0253-4177(2003)08-0833-04
修稿时间:2002年9月6日

Growth of High Resistance Cd1-xZnxTe Crystal and Its Property Investigations
Li Guoqiang,Gu Zhi and Jie Wanqi.Growth of High Resistance Cd1-xZnxTe Crystal and Its Property Investigations[J].Chinese Journal of Semiconductors,2003,24(8):833-836.
Authors:Li Guoqiang  Gu Zhi and Jie Wanqi
Abstract:
Keywords:Cd 1-x  Zn  x Te  Bridgman method  resistance  transmittance  crystallinity
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