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N型GaN的持续光电导
引用本文:汪连山,刘祥林,岳国珍,王晓晖,汪度,陆大成,王占国.N型GaN的持续光电导[J].半导体学报,1999,20(5):371-377.
作者姓名:汪连山  刘祥林  岳国珍  王晓晖  汪度  陆大成  王占国
作者单位:中国科学院半导体研究所材料科学实验室,中国科学院半导体研究所表面物理实验室
摘    要:本文报道了金属有机物化学气相外延(MOVPE)生长的未人为掺杂和掺Sin-GaN的持续光电导(PersistentPhotoconductivity——PPC).在不同温度下观察了光电导的产生和衰变行为.实验结果表明,未人为掺杂和掺Sin-GaN的持续光电导和黄光发射可能起源于深能级缺陷,这些缺陷可以是VGa空位、NGa反位或者VGa-SiGa络合物.和未人为掺杂样品A相比,样品B中因Si的并入导致GaN中的深能级缺陷增加,提高了GaN中黄光发射,使持续光电导衰变减慢,但实验未发现黄光的加强和光电导衰变特

关 键 词:氮化镓  N型  持续光电导  MOVPE
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