|
|||||
|
|
| a-Si:H/a-SiN_x:H超晶格薄膜的制备及其性质 | |
| 引用本文： | 王志超,刘湘娜,何宇亮,吴汝麟.a-Si:H/a-SiN_x:H超晶格薄膜的制备及其性质[J].半导体学报,1987,8(1):94-98. |
| 作者姓名： | 王志超 刘湘娜 何宇亮 吴汝麟 |
| 作者单位： | 南京大学物理系 (王志超，刘湘娜，何宇亮)，南京大学物理系(吴汝麟) |
| 基金项目： | 中国科学院院外科学基金 |
| 摘 要： | 本文报道了a-Si:H/a-SiN_x:H超晶格薄膜的制备方法、结构以及在光学方面的量子尺寸效应. |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |
| 点击此处可从《半导体学报》浏览原始摘要信息 | |
| 点击此处可从《半导体学报》下载全文 | |