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| ECR Plasma CVD法淀积介质膜技术在半导体光电器件中的应用 | |
| 引用本文： | 茅冬生,谭满清.ECR Plasma CVD法淀积介质膜技术在半导体光电器件中的应用[J].半导体学报,1999,20(9):837-840. |
| 作者姓名： | 茅冬生 谭满清 |
| 作者单位： | 中国科学院半导体研究所光电子器件国家工程研究中心!北京100083 |
| 摘 要： | 电子回旋共振等离子体化学气相淀积（ＥＣＲＰｌａｓｍａＣＶＤ）法淀积介质膜技术是制备性能优良的光电子器件光学膜和电介质膜的重要手段之一．本文报道了ＥＣＲＰｌａｓｍａＣＶＤ法淀积介质膜的工艺以及介质膜的特性等 |
| 关 键 词： | 介质膜 半导体光电器件 ECRPlasmaCVD 应用 |
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