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应用于大功率MMIC开关的AlGaN背势垒GaN HEMT
引用本文:任春江,沈宏昌,李忠辉,陈堂胜,张斌,高涛.应用于大功率MMIC开关的AlGaN背势垒GaN HEMT[J].半导体学报,2015,36(1):014008-5.
作者姓名:任春江  沈宏昌  李忠辉  陈堂胜  张斌  高涛
摘    要:报道了应用于大功率开关的AlGaN背势垒0.25μm GaN HEMT。通过引入AlGaN背势垒,MOCVD淀积在3英寸SiC衬底上的AlGaN/GaN异质结材料缓冲层的击穿电压获得了大幅度的提升,相比于普通GaN缓冲层和掺Fe GaN缓冲层击穿电压提升幅度分别为4倍和2倍。采用具有AlGaN背势垒AlGaN/GaN 外延材料研制的GaN HEMT开关管在源漏间距为2μm、2.5μm、3μm、3.5μm和4μm时,估算得到的关态功率承受能力分别为25.0W、46.2W、64.0W、79.2W和88.4W。基于源漏间距为2.5μm的GaN HEMT开关管设计了DC-12GHz的单刀双掷MMIC开关。该开关采用了反射式串-并-并结构,整个带内插入损耗最大1.0dB、隔离度最小30dB,10GHz下连续波测试得到其功率承受能力达44.1dBm。

关 键 词:AlGaN/GaN  HEMT  back  barrier  MMIC  high  power  switch
修稿时间:8/3/2014 12:00:00 AM

GaN HEMT with AlGaN back barrier for high power MMIC switch application
Ren Chunjiang,Shen Hongchang,Li Zhonghui,Chen Tangsheng,Zhang Bin and Gao Tao.GaN HEMT with AlGaN back barrier for high power MMIC switch application[J].Chinese Journal of Semiconductors,2015,36(1):014008-5.
Authors:Ren Chunjiang  Shen Hongchang  Li Zhonghui  Chen Tangsheng  Zhang Bin and Gao Tao
Affiliation:National Key Laboratory of Monolithic Integrated Circuits and Modules, Nanjing Electron Devices Institute,Nanjing 210016, China
Abstract:
Keywords:AlGaN/GaN  HEMT  back barrier  MMIC  high power  switch
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