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RF-MBE生长AlN/GaN超晶格结构二维电子气材料
引用本文:胡国新,王晓亮,孙殿照,王军喜,刘宏新,刘成海,曾一平,李晋闽,林兰英.RF-MBE生长AlN/GaN超晶格结构二维电子气材料[J].半导体学报,2003,24(6):602-605.
作者姓名:胡国新  王晓亮  孙殿照  王军喜  刘宏新  刘成海  曾一平  李晋闽  林兰英
作者单位:中国科学院半导体研究所材料中心 北京100083 (胡国新,王晓亮,孙殿照,王军喜,刘宏新,刘成海,曾一平,李晋闽),中国科学院半导体研究所材料中心 北京100083(林兰英)
基金项目:国家自然科学基金;60136020;
摘    要:用射频等离子体辅助分子束外延技术( RF- MBE)在c面蓝宝石衬底上外延了高质量的Ga N膜以及Al N/Ga N超晶格结构极化感应二维电子气材料.所获得的掺Si的Ga N膜室温电子浓度为2 .2e1 8cm- 3,相应的电子迁移率为2 2 1cm2 /( V·s) ;1μm厚的Ga N外延膜的( 0 0 0 2 ) X射线衍射摇摆曲线半高宽( FWHM)为7′;极化感应产生的二维电子气室温电子迁移率达到10 86cm2 /( V·s) ,相应的二维电子气面密度为7.5e1 2 cm- 2 .

关 键 词:RF-MBE    二维电子气    HFET    AlGaN/GaN
文章编号:0253-4177(2003)06-0602-04
修稿时间:2002年7月18日

Two-Dimensional Electron Gas Materials with AlN/GaN Superlattice Structure Grown by Radio-Frequency Plasma-Assisted Molecular Beam Epitaxy
Hu Guoxin,Wang Xiaoliang,Sun Dianzhao,Wang Junxi,Liu Hongxin,Liu Chenghai Zeng Yiping,Li Jinmin and Lin Lanying.Two-Dimensional Electron Gas Materials with AlN/GaN Superlattice Structure Grown by Radio-Frequency Plasma-Assisted Molecular Beam Epitaxy[J].Chinese Journal of Semiconductors,2003,24(6):602-605.
Authors:Hu Guoxin  Wang Xiaoliang  Sun Dianzhao  Wang Junxi  Liu Hongxin  Liu Chenghai Zeng Yiping  Li Jinmin and Lin Lanying
Abstract:
Keywords:RF-MBE  2DEG  HFET  AlGaN/GaN
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