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基于InP衬底的GaAsSb/InP异质结晶体管
引用本文:徐现刚,刘喆,崔得良.基于InP衬底的GaAsSb/InP异质结晶体管[J].半导体学报,2002,23(9).
作者姓名:徐现刚  刘喆  崔得良
作者单位:山东大学晶体材料国家重点实验室,济南,250100
摘    要:采用金属有机化学气相沉积生长了InP/GaAs0.5Sb0.5/InP 双异质结晶体三极管(DHBT)材料,研究了材料质量对器件性能的影响.制备的器件不但具有非常好的直流特性,而且还表现出良好的微波特性,其结果与能带理论的预言一致,DHBT集电结和发射结的电流理想因子分别为1.00和1.06,击穿电压高达15V,电流放大增益截止频率超过100GHz.

关 键 词:GaAsSb  InP  MOCVD  双异质结晶体三极管

GaAsSb/InP HBT Growth on InP Substrates
Abstract:
Keywords:
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