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低温制备Mn-W共掺ZnO透明导电薄膜
引用本文:张化福,刘汉法,类成新,周爱萍,袁长坤.低温制备Mn-W共掺ZnO透明导电薄膜[J].半导体学报,2010,31(8):083005-3.
作者姓名:张化福  刘汉法  类成新  周爱萍  袁长坤
摘    要:利用直流磁控溅射法成功地在室温玻璃衬底上制备出了电阻率低、透光率高的Mn-W共掺ZnO(ZMWO)透明导电薄膜。溅射功率在65-150 W之间变化。实验结果表明,溅射功率对ZMWO薄膜的晶化程度和电阻率有很大影响,而对其透光率和光学带隙影响不大。实验制备的ZMWO为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,具有垂直于衬底方向的c轴择优取向。考虑到薄膜的电学、光学性能及结晶质量,我们认为本实验中的最佳值溅射功率为90 W,在此功率下制备的ZMWO薄膜的电阻率具有最小值9.8×10-4Ωcm,其可见光透过率为89%。

关 键 词:Mn-W共掺杂ZnO  透明导电薄膜  磁控溅射  溅射功率
收稿时间:1/31/2010 3:34:04 PM
修稿时间:4/5/2010 9:56:04 AM
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