| 薄膜表面直接四光束激光干涉制备复眼的研究 |
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| 引用本文： | 张海鑫,陈旭浪,张鲁佳,刘光泽,张金金,王大鹏,王作斌.薄膜表面直接四光束激光干涉制备复眼的研究[J].光电子．激光,2014(12):2283-2287. |
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| 作者姓名： | 张海鑫 陈旭浪 张鲁佳 刘光泽 张金金 王大鹏 王作斌 |
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| 作者单位： | 长春理工大学 国家纳米操纵与制造国际联合研究中心,吉林 长春 ,130022;长春理工大学 国家纳米操纵与制造国际联合研究中心,吉林 长春 ,130022;长春理工大学 国家纳米操纵与制造国际联合研究中心,吉林 长春 ,130022;长春理工大学 国家纳米操纵与制造国际联合研究中心,吉林 长春 ,130022;长春理工大学 国家纳米操纵与制造国际联合研究中心,吉林 长春 ,130022;长春理工大学 国家纳米操纵与制造国际联合研究中心,吉林 长春 ,130022;长春理工大学 国家纳米操纵与制造国际联合研究中心,吉林 长春 ,130022 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划“973”计划(2012CB326406)、教育部博士学科点专项基金(2011221640002)和大学生创新创业训练计划(2013S001)资助项目 (长春理工大学 国家纳米操纵与制造国际联合研究中心,吉林 长春 ,130022) |
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| 摘 要： | 基于四光束激光干涉光刻技术,在薄膜表面实现 了四光束激光直接干涉光刻制备微纳复眼结 构,为激光干涉 光刻研究提供了一个新的应用方向。对于多层复合薄膜,激光干涉光刻的效果与薄膜的透光 率相关, 即在一定范围内,透光率影响光刻结构的形成。在保持四光束激光干涉光刻系统波长和 入射角度不变 的条件下,通过改变能量得到不同尺寸的周期性孔阵结构,与复眼结构一致,发现透光率分 别为5%、30%和75%的薄膜在20～30mJ曝光时均可形成清晰的周期复眼 结构,且在25mJ时最为明显。在700～1200nm 波段使用反射率测试系统对光刻前后透光 率为5%、30%和75%的薄膜进行了反射率测试,测试结果表明经光刻后形成的结构反射率普遍 降低,可以在薄膜表面实现减反特性。
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| 关 键 词： | 干涉光刻 复眼结构 薄膜 |
| 收稿时间： | 2014/8/28 0:00:00 |
Fabrication of fly-eye structures on thin films by direct four-beam laser interference lithography |
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| Affiliation: | International Research Centre for Nano Handling and Manufacturing of China,Cha ngchun University of Science and Technology,Changchun 130022,China;International Research Centre for Nano Handling and Manufacturing of China,Cha ngchun University of Science and Technology,Changchun 130022,China;International Research Centre for Nano Handling and Manufacturing of China,Cha ngchun University of Science and Technology,Changchun 130022,China;International Research Centre for Nano Handling and Manufacturing of China,Cha ngchun University of Science and Technology,Changchun 130022,China;International Research Centre for Nano Handling and Manufacturing of China,Cha ngchun University of Science and Technology,Changchun 130022,China;International Research Centre for Nano Handling and Manufacturing of China,Cha ngchun University of Science and Technology,Changchun 130022,China;International Research Centre for Nano Handling and Manufacturing of China,Cha ngchun University of Science and Technology,Changchun 130022,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | interference lithography fly-eye structure thin film |
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