| 光纤端面宽带减反射膜制备 |
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| 引用本文： | 高婷,曲轶,郑晓刚,李再金.光纤端面宽带减反射膜制备[J].光电子．激光,2014(4):687-691. |
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| 作者姓名： | 高婷 曲轶 郑晓刚 李再金 |
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| 作者单位： | 长春理工大学 高功率半导体激光国家重点实验室,吉林 长春130022;长春理工大学 高功率半导体激光国家重点实验室,吉林 长春130022;长春理工大学 高功率半导体激光国家重点实验室,吉林 长春130022;长春理工大学 高功率半导体激光国家重点实验室,吉林 长春130022 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金委员会和中国物理研究院联合基金(U1330136)资助项目 (长春理工大学 高功率半导体激光国家重点实验室,吉林 长春130022) |
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| 摘 要： | 为了提高高功率半导体激光器光纤耦合系统中光纤的透过率以及耦合效率,通过高精密研磨抛光技术处理光纤端面,选取高激光损伤阈值薄膜材料,优化膜系结构,采用直接光控技术和离子辅助沉积法,成功地在光纤芯直径为100μm的多模光纤(MMF)端面上镀制了宽带减反射膜。测试结果表明,在900~1 100nm波段光纤双端面光损耗降低6%,总透射率达到99.2%,有效提高了光纤耦合系统中光纤耦合效率。
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| 关 键 词： | 半导体激光器 光纤端面 增透膜 直接光控技术 |
| 收稿时间： | 2013/9/13 0:00:00 |
Preparation of broadband anti-reflection coating on the end of fiber |
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| Affiliation: | National Key Lab on High Power Semiconductor Lasers,Changchun University of Sc ience and Technology,Changchun 130022,China;National Key Lab on High Power Semiconductor Lasers,Changchun University of Sc ience and Technology,Changchun 130022,China;National Key Lab on High Power Semiconductor Lasers,Changchun University of Sc ience and Technology,Changchun 130022,China;National Key Lab on High Power Semiconductor Lasers,Changchun University of Sc ience and Technology,Changchun 130022,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | semiconductor laser optical fiber end face anti-reflection coating direct op tical control technology |
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