| 用相干刻蚀制作大面积的二维纳米阵列 |
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| 引用本文： | 向望华 谭艺枝 张贵忠 王刚 J.B.Ketterson.用相干刻蚀制作大面积的二维纳米阵列[J].光电子．激光,2003,14(10):1054-1057. |
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| 作者姓名： | 向望华 谭艺枝 张贵忠 王刚 J.B.Ketterson |
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| 作者单位： | 1. 天津大学精密仪器和光电子工程学院,天津,300072
2. 美国西北大学物理与天文学系,埃沃斯顿,IL60208 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，6998700269978015， |
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| 摘 要： | 采用多级激光扩束获得大面积的均匀光场分布，利用相干刻蚀(IL)技术，制作了大面积(3．23cm^2)的二维(2D)周期阵列结构，如光栅和栅格，并以此阵列制备出空间周期为300nm的金属Ag、Au和磁性材料Ni的点阵结构。
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| 关 键 词： | 相干刻蚀 二维纳米阵列 多级激光扩束 光栅 栅格 |
Using Interferometric Lithography to Make Large-area Two-dimensional Nanoarrays |
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| Abstract.Using Interferometric Lithography to Make Large-area Two-dimensional Nanoarrays[J].Journal of Optoelectronics·laser,2003,14(10):1054-1057. |
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| Authors: | Abstract |
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| Abstract: | The uniform light field over a large-area,gained by cascaded laser beam expanding,was used to make large-area of 3.23 cm2 two-dimensional(2D) periodic array structures such as grating and grids by interferometric lithography(IL) technique.Arrays were engineered with a spatial period of 300 nm for metallic Ag and Au and magnetic material of Ni. |
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| Keywords: | interferometric lithography(IL) nanoarrays |
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