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JTE终端结构4H-SiC JBS二极管的击穿特性研究
引用本文:姜玉德,周慧芳,赵琳娜,甘新慧,顾晓峰,计建新. JTE终端结构4H-SiC JBS二极管的击穿特性研究[J]. 微电子学, 2021, 51(6): 918-922
作者姓名:姜玉德  周慧芳  赵琳娜  甘新慧  顾晓峰  计建新
作者单位:江南大学 电子工程系 物联网技术应用教育部工程研究中心, 江苏 无锡 214122;华润微电子有限公司, 江苏 无锡 214061
基金项目:中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(JUSRP51510)
摘    要:研究了JTE终端结构4H-SiC JBS二极管的击穿特性.首先,理论模拟了JTE终端横向长度、离子注入剂量和界面电荷对击穿电压的影响.对工艺条件进行优化,制作了JTE终端结构4H-SiC JBS二极管.测试结果表明,器件的正向电压为1.52V,特征导通电阻为2.12 mΩ·cm2,击穿电压为1650 V.接着,研究器件...

关 键 词:SiC结势垒肖特基二极管  JTE终端结构  击穿电压  高温反偏
收稿时间:2021-01-10

Study on Breakdown Characteristics of 4H-SiC JBS with JTE Termination
JIANG Yude,ZHOU Huifang,ZHAO Linn,GAN Xinhui,GU Xiaofeng,JI Jianxin. Study on Breakdown Characteristics of 4H-SiC JBS with JTE Termination[J]. Microelectronics, 2021, 51(6): 918-922
Authors:JIANG Yude  ZHOU Huifang  ZHAO Linn  GAN Xinhui  GU Xiaofeng  JI Jianxin
Affiliation:Engineer.Res.Center of IoT Technol.Appl.Ministry of Education, Department of Elec.Engineer., Jiangnan Univ., Wuxi, Jiangsu 214122, P.R.China;China Resources Microelectronics Limited, Wuxi, Jiangsu 214061, P.R.China
Abstract:
Keywords:
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