| 超分辨近场结构之纳米光刻技术 |
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| 引用本文： | 王沛,张斗国,唐麟,鲁拥华,焦小瑾,明海.超分辨近场结构之纳米光刻技术[J].量子电子学报,2005,22(6):840-843. |
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| 作者姓名： | 王沛 张斗国 唐麟 鲁拥华 焦小瑾 明海 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学物理系,安徽,合肥,230026 |
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| 基金项目： | 中国科学院资助项目，国家科技攻关项目，安徽省自然科学基金 |
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| 摘 要： | 超分辨近场结构(Super-RENS)是在传统的超分辨光盘技术和近场光学的基础上发展起来的新技术.介绍了超分辨近场结构的基本原理及其在纳米光刻方面的应用,拓展了超分辨近场结构的外延:在近场范围内,能实现超过衍射极限的纳米多层膜结构.局域表面等离子体效应在高密光存储、纳米光刻等纳米光子学研究领域具有重要的科学意义和应用价值.
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| 关 键 词： | 近场光学 超分辨近场结构 纳米光刻 局域表面等离子体效应 |
| 文章编号： | 1007-5461（2005）06-0840-04 |
| 收稿时间： | 2004-09-30 |
| 修稿时间： | 2004-12-21 |
Nano-photolithography using super-resolution near-field structure |
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| WANG Pei,ZHANG Dou-guo,TANG Lin,LU Yong-hua,JIAO Xiao-jin,MING Hai.Nano-photolithography using super-resolution near-field structure[J].Chinese Journal of Quantum Electronics,2005,22(6):840-843. |
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| Authors: | WANG Pei ZHANG Dou-guo TANG Lin LU Yong-hua JIAO Xiao-jin MING Hai |
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| Abstract: | Super-resolution near-field structure (Super-RENS) is a newly developed technology based on traditional super-resolution optical disk and near-field optics. The principle of super-RENS and its applications in nano-photolithography are reviewed. The broad muti-mask-layer structure that can realize super-resolution beyond diffraction limit is called Super-RENS. The investigation on surface plasmons in nano-optics is very import. |
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| Keywords: | near-field optics super-resolution near-field structure nano-photolithography surface plasmons |
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