| 脉冲激光淀积MgF2薄膜的制备及性质研究 |
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| 引用本文： | 于琳,韩新海,王冠中,揭建胜,廖源,余庆选,方容川.脉冲激光淀积MgF2薄膜的制备及性质研究[J].量子电子学报,2004,21(1):48-50. |
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| 作者姓名： | 于琳 韩新海 王冠中 揭建胜 廖源 余庆选 方容川 |
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| 作者单位： | 1. 中国科学技术大学结构分析开放研究实验室,安徽,合肥,230026;中国科学技术大学物理系,安徽,合肥,230026
2. 中国科学技术大学物理系,安徽,合肥,230026 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目(59976038) |
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| 摘 要： | 本文采用脉冲激光淀积方法(PLD)制备了MgF2光学薄膜，并对其表面形貌以及光学性质进行了测试分析，X射线光电子能谱分析显示MgF2样品具有很好的化学组分配比，F／Mg原子比在1．9～2．1之间，接近于体材料；在可见光波段其光学透过率为60％～80％，在红外波段更是达到了90％以上，由KK变换计算MgF2的折射率大约为1．39，也接近于体材料的折射率1.38。
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| 关 键 词： | 脉冲激光淀积 MgF2薄膜 折射率 透过率 薄膜光学 |
| 文章编号： | 1007-5461(2004)01-0048-03 |
| 收稿时间： | 2003/3/7 |
| 修稿时间： | 2003年3月7日 |
Preparation and Properties of MgF2 Thin Film by Pulsed Laser Deposition |
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| YU Lin,HAN Xin-hai,WANG Guanzhong,JIE Jian-sheng,LIAO Yuan,YU Qing-xuan,FANG Rong-chuan.Preparation and Properties of MgF2 Thin Film by Pulsed Laser Deposition[J].Chinese Journal of Quantum Electronics,2004,21(1):48-50. |
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| Authors: | YU Lin HAN Xin-hai WANG Guanzhong JIE Jian-sheng LIAO Yuan YU Qing-xuan FANG Rong-chuan |
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| Abstract: | Optical thin films of MgF2 were successfully fabricated by pulsed laser deposition technique. The morphology and optical properties were investigated. The transmittance was 60%-80% in the visible light range, and more than 90% in the infrared range. The XPS showed the atom ratio of F: Mg in the obtained film was 1.9-2.1, very close to the bulk material. The refractive index of MgF2 thin film was -1.39 resulted from K-K calculation, also close to the value of 1.38 of the bulk MgF2. |
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| Keywords: | film optics pulsed laser depostion MgF2 film transmittance |
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