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| 新的高分辨率透明非银光刻版 | |
| 引用本文： | 孺子牛.新的高分辨率透明非银光刻版[J].微纳电子技术,1971(12). |
| 作者姓名： | 孺子牛 |
| 摘 要： | 已研制成一种新的高分辨率光刻版,它使微电子工业能够容易而又简单地生产完整性极高的掩模。GAF微线高分辨率透明版HR-320是涂敷了一薄层正性无粒透明光敏材料的极平滑的玻璃片。用普通的设备曝光,但是用一种简单的气相技术-底版不触及任何液体,在1～2分钟内就能完成版的复印。微电子电路生产中光刻工艺的关键项目是高分辨率掩模。从微电子工业的初期起,就常用微粒卤化银明胶高分辨率玻璃版制备掩模。它的限制是众所周知的。即由于乳胶本身颗粒 |
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