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| 无掩模激光干涉光刻技术研究 | |
| 引用本文： | 冯伯儒,张锦,宗德蓉,蒋世磊,苏平,陈宝钦,陈芬.无掩模激光干涉光刻技术研究[J].微纳电子技术,2002,39(3):39-42. |
| 作者姓名： | 冯伯儒 张锦 宗德蓉 蒋世磊 苏平 陈宝钦 陈芬 |
| 作者单位： | 1. 中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209 2. 中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点实验室,四川,成都,610209;四川大学物理系,四川,成都,610064 3. 中国科学院微电子中心,北京,100029 4. 四川师范学院物理系,四川,南充,637002 |
| 基金项目： | 国家自然科学基金(60076019)资助 |
| 摘 要： | 介绍了一种不用掩模的光刻技术———激光干涉光刻技术的基本原理,给出了干涉光刻技术的主要特点及一些可能的应用,并对实验系统和初步实验结果进行了分析。研究表明,激光干涉光刻具有大视场和分辨率高和视场宽等优点。 |
| 关 键 词： | 微光刻技术 干涉光刻 场发射显示器 无掩模光刻技术 |
| 文章编号： | 1671-4776(2002)03-0039-04 |
| 修稿时间： | 2001年11月8日 |
Study of interferometric lithography without masks |
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| FENG Bo-ru ,ZHANG Jin ,ZONG De-rong ,JIANG Shi-lei ,SU Ping ,CHEN Bao-qin ,CHEN Fen.Study of interferometric lithography without masks[J].Micronanoelectronic Technology,2002,39(3):39-42. | |
| Authors: | FENG Bo-ru ZHANG Jin ZONG De-rong JIANG Shi-lei SU Ping CHEN Bao-qin CHEN Fen |
| Affiliation: | FENG Bo-ru 1,ZHANG Jin 1,2,ZONG De-rong 1,JIANG Shi-lei 1,SU Ping 1,2,CHEN Bao-qin 3,CHEN Fen 4 |
| Abstract: | The principles of laser interferometric lithography,main technology characteristecs and its applications are described.The experiment system and results are analysed also.The re search shows that laser interferometric lithography has high resolution and large field. |
| Keywords: | optical microlithography interferometric lithography field emission display mi -crolithography without masks |
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