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硅基微结构上的聚吡咯功能薄膜均匀性研究
引用本文:朱平,蔡婷,任重,熊继军.硅基微结构上的聚吡咯功能薄膜均匀性研究[J].微纳电子技术,2015(2):89-92,122.
作者姓名:朱平  蔡婷  任重  熊继军
作者单位:中北大学电子测试技术重点实验室;中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室
基金项目:山西省自然基金资助项目(2012011010-2)
摘    要:针对聚吡咯(PPy)功能薄膜在三维微结构上很难均匀电沉积,易出现MEMS超级电容器阴阳极黏连、接触等失效现象,通过控制吡咯(Py)单体与苯磺酸钠(BSNa)溶液的配比与循环伏安扫描速度,探索PPy功能薄膜在三维微结构上的均匀沉积方法。研究表明:当Py与BSNa摩尔比为1∶2,氧化石墨烯(GO)质量分数为0.4%时,以20 mV/s的扫描速度扫描56圈,制备出均匀致密的PPy功能薄膜。SEM测试表明:PPy功能薄膜具有良好的均匀性;恒流充放电测试表明:MEMS超级电容器具有良好的快速充放电特点。因此,本研究使三维硅基微结构上的功能薄膜均匀性得到明显改善,缓解了器件的阴阳极接触失效问题。

关 键 词:MEMS超级电容器  功能薄膜  聚吡咯(PPy)  苯磺酸钠(BSNa)  扫描速度  均匀性
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