| 射频磁控溅射法制备(Ba_(0.7)Sr_(0.3))TiO_3铁电薄膜 |
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| 引用本文： | 刘世建,徐重阳,曾祥斌,赵伯芳,王长安,史济群. 射频磁控溅射法制备(Ba_(0.7)Sr_(0.3))TiO_3铁电薄膜[J]. 压电与声光, 2001, 23(4) |
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| 作者姓名： | 刘世建 徐重阳 曾祥斌 赵伯芳 王长安 史济群 |
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| 作者单位： | 华中科技大学电子科学与技术系 |
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| 基金项目： | 国防科技电子预研基金资助项目 ( 99J2 .2 .4JW.0 5 12 ) |
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| 摘 要： | 采用射频磁控溅射法制备了用于非致冷红外焦平面阵列的 ( Ba0 .7Sr0 .3) Ti O3( BST)铁电薄膜。研究了BST铁电薄膜的制备工艺 ,分析了 BST铁电薄膜的晶体结构和微观形貌。测试了其介电特性 ,测得的相对介电常数 -温度曲线表明制备的 ( Ba0 .7Sr0 .3) Ti O3铁电薄膜的居里温度在室温附近 ,约 3 0°C处。
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| 关 键 词： | 射频磁控溅射法 BST铁电薄膜 相对介电常数-温度曲线 居里温度 |
(Ba_(0.7)Sr_(0.3))TiO_3 Ferroelectric Thin Film Prepared by RF Magnetron Sputtering |
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| LIU Shi-jian,XU Chong-yang,ZENG Xiang-bin,ZHAO Bo-fang,WANG Chang-an,SHI Ji-qun. (Ba_(0.7)Sr_(0.3))TiO_3 Ferroelectric Thin Film Prepared by RF Magnetron Sputtering[J]. Piezoelectrics & Acoustooptics, 2001, 23(4) |
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| Authors: | LIU Shi-jian XU Chong-yang ZENG Xiang-bin ZHAO Bo-fang WANG Chang-an SHI Ji-qun |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | RF magnetron sputtering BST ferroelectric thin film comparative permittivity-temperature curve Curie temperature |
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