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退火对溅射ZnO薄膜光吸收性能的影响
引用本文:李子全,常春荣,徐芸芸.退火对溅射ZnO薄膜光吸收性能的影响[J].压电与声光,2006,28(5):572-574.
作者姓名:李子全  常春荣  徐芸芸
作者单位:南京航空航天大学,材料科学与技术学院,江苏,南京,210016
摘    要:利用射频磁控溅射制备了高c轴取向的ZnO薄膜,采用X-射线衍射仪、扫描电镜和紫外-可见光分光光度计研究了退火对ZnO薄膜的结构和光吸收性能的影响。结果表明,退火可以改善ZnO薄膜的质量和光吸收性能。退火后薄膜的结构、形貌和光吸收性能得到改善,薄膜中缺陷减少,晶粒长大致密化,尺寸较均匀;紫外吸收峰变窄,强度增加,吸收边变得陡峭并向长波方向移动,光学带隙降低。450℃退火的ZnO薄膜具有最佳的结晶质量和紫外吸收性能。

关 键 词:ZnO薄膜  退火  光吸收
文章编号:1004-2474(2006)05-0572-03
收稿时间:2005-04-21
修稿时间:2005年4月21日

Effect of Annealing on Optical Absorption of Sputtered ZnO Thin Film
LI Zi-quan,CHANG Chun-rong,XU Yun-yun.Effect of Annealing on Optical Absorption of Sputtered ZnO Thin Film[J].Piezoelectrics & Acoustooptics,2006,28(5):572-574.
Authors:LI Zi-quan  CHANG Chun-rong  XU Yun-yun
Affiliation:Institute of Material Science and Technology, Aeronautics and Astronautics of Nanjing University, Nanjing 210016, China
Abstract:
Keywords:ZnO thin film  heat treatment  optical absorption
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