| 抗冲击高绝缘电阻平面光窗金属外壳的研制 |
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| 引用本文： | 袁礼华,顾正伟.抗冲击高绝缘电阻平面光窗金属外壳的研制[J].半导体光电,2004,25(4):274-276. |
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| 作者姓名： | 袁礼华 顾正伟 |
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| 作者单位： | 重庆光电技术研究所,重庆,400060;重庆光电技术研究所,重庆,400060 |
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| 摘 要： | 采用独特的结构设计,利用高频熔封工艺制作出了抗冲击管帽,并通过选材、优化工艺、改进模具等手段制作了高绝缘电阻管座.实验结果显示,采用以上方法制作的平面光窗外壳能承受3×9.806 N的机械冲击,绝缘电阻达到1×1012Ω,较常规的外壳提高了2～3个数量级.
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| 关 键 词： | 光电探测器 外壳 绝缘电阻 抗冲击 |
| 文章编号： | 1001-5868(2004)04-0274-03 |
| 修稿时间： | 2004年4月16日 |
Development of Anti-impact and High-isolate Resistance Metal Package with Plane Light Window |
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| YUAN Li-hua,GU Zheng-wei.Development of Anti-impact and High-isolate Resistance Metal Package with Plane Light Window[J].Semiconductor Optoelectronics,2004,25(4):274-276. |
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| Authors: | YUAN Li-hua GU Zheng-wei |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | photodetector package isolate resistance anti-impact |
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