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聚合物9×9阵列波导光栅复用器的工艺研究
引用本文:赵禹,陈开鑫,张大明,崔占臣,王菲,马春生,衣茂斌.聚合物9×9阵列波导光栅复用器的工艺研究[J].半导体光电,2002,23(3):178-181.
作者姓名:赵禹  陈开鑫  张大明  崔占臣  王菲  马春生  衣茂斌
作者单位:1. 成光电子学国家重点联合实验室,吉林大学实验区,吉林,长春,130023;2. 吉林大学,化学学院,吉林,长春,130023
基金项目:国家重点基础研究发展计划(973计划);G2000036604;
摘    要:首次采用铝掩模工艺制备出9×9硅基聚合物阵列波导光栅(AWG)复用器.结果表明,在AWG器件制作工艺上,铝掩模技术明显优于厚胶掩模技术.用这种技术制备的器件,其结构指标与理论设计相符合.

关 键 词:聚合物  阵列波导光栅  掩模技术
文章编号:1001-5868(2002)03-0178-04
修稿时间:2002年1月25日

Research on Technology of Polymer 9×9 Arrayed Waveguide Grating Multiplexer
ZHAO Yu ,CHEN Kai xin ,ZHANG Da ming ,CUI Zhan chen ,WANG Fei ,MA Chun sheng ,YI Mao bin.Research on Technology of Polymer 9×9 Arrayed Waveguide Grating Multiplexer[J].Semiconductor Optoelectronics,2002,23(3):178-181.
Authors:ZHAO Yu  CHEN Kai xin  ZHANG Da ming  CUI Zhan chen  WANG Fei  MA Chun sheng  YI Mao bin
Affiliation:ZHAO Yu 1,CHEN Kai xin 1,ZHANG Da ming 1,CUI Zhan chen 2,WANG Fei 1,MA Chun sheng 1,YI Mao bin 1
Abstract:
Keywords:polymer  arrayed waveguide grating  mask fabrication technology
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