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标准CMOS工艺下Si光电探测器的模拟与设计
引用本文:卞剑涛,陈朝.标准CMOS工艺下Si光电探测器的模拟与设计[J].半导体光电,2006,27(2):128-132.
作者姓名:卞剑涛  陈朝
作者单位:厦门大学,物理系,福建,厦门,361005;厦门大学,物理系,福建,厦门,361005
摘    要:设计了与标准CMOS工艺兼容的硅双光电探测器,并从理论上计算和分析了其绝对光谱响应.0.5μm CMOS工艺条件数值模拟结果显示,在无抗反射膜情况下该探测器在400~900nm波长范围内响应度都在0.2A/W以上,尤其是在短波长处效果比一般的探测器要好.还就反向偏压以及CMOS工艺中介质与钝化层等因素对探测器响应度的影响进行了讨论.

关 键 词:CMOS  光电探测器  
文章编号:1001-5868(2006)02-0128-05
收稿时间:2005-08-04
修稿时间:2005年8月4日

Simulation and Design of Si-photodetector in Standard CMOS Process
BIAN Jian-tao,CHEN Chao.Simulation and Design of Si-photodetector in Standard CMOS Process[J].Semiconductor Optoelectronics,2006,27(2):128-132.
Authors:BIAN Jian-tao  CHEN Chao
Affiliation:Department of Physics, Xiamen University, Xiamen 361005, CHN
Abstract:
Keywords:CMOS  photodetector  silicon
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