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GaN p-i-n紫外探测器的研制
引用本文:陈江峰,李雪.GaN p-i-n紫外探测器的研制[J].半导体光电,2005,26(6):491-493,498.
作者姓名:陈江峰  李雪
作者单位:上海交通大学,微电子学院,上海,200092;中国科学院上海技术物理研究所,传感技术国家重点实验室,上海,200083;中国科学院上海技术物理研究所,传感技术国家重点实验室,上海,200083
摘    要:研制了一种GaN p-i-n型单元器件,详细地讨论了该器件的制备工艺,并对该器件进行了光电性能测试.测试结果表明,器件的正向开启电压在2 V左右,零偏动态电阻R0约为1010~1011 Ω,最大峰值响应率在365 nm处为0.18~0.21 A/W,器件的上升响应时间和下降时间分别为2.8和13.4 ns.

关 键 词:紫外探测器  氮化镓  刻蚀
文章编号:1001-5868(2005)06-0491-03
收稿时间:2005--04--21
修稿时间:2005--04--21

GaN p-i-n Ultraviolet Detectors
CHEN Jiang-feng,LI Xue.GaN p-i-n Ultraviolet Detectors[J].Semiconductor Optoelectronics,2005,26(6):491-493,498.
Authors:CHEN Jiang-feng  LI Xue
Affiliation:1. School of Microelectronics, Shanghai Jiaotong University, Shanghai 200092, CHN ; State Key Laboratory of Transducer Technology, Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, Shanghai 200083, CHN
Abstract:
Keywords:ultraviolet detector  GaN  etching
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
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