首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

并四苯晶体的物理气相沉积
引用本文:刘建军,李永军,刘明大,石家纬,葛翔,纪平,郭树旭,金恩顺. 并四苯晶体的物理气相沉积[J]. 半导体光电, 2001, 22(6): 437-439,442
作者姓名:刘建军  李永军  刘明大  石家纬  葛翔  纪平  郭树旭  金恩顺
作者单位:[1]吉林大学集成光电子学国家重点联合实验室,吉林长春130023 [2]吉林大学集成光电子学国家重点联合实验室,吉林长
基金项目:国家自然科学基金;69876015;
摘    要:设计了水平沉积系统,物理气相生长了并四苯晶体。仅用10-30mg的源,得到了面积达20mm^2的片状晶体。报道了可重复性的晶体生长条件。测试表明,晶体表面光滑,结构非常有序。

关 键 词:并四苯 有机晶体 物理气相沉积
文章编号:1001-5868(2001)06-0437-03

Physical Vapor Deposition of Tetracene Crystals
LIU Jian jun,LI Yong jun,LIU Ming da,SHI Jia wei,GE Xiang,JI Ping,GUO Shu xu,JIN En shun. Physical Vapor Deposition of Tetracene Crystals[J]. Semiconductor Optoelectronics, 2001, 22(6): 437-439,442
Authors:LIU Jian jun  LI Yong jun  LIU Ming da  SHI Jia wei  GE Xiang  JI Ping  GUO Shu xu  JIN En shun
Abstract:
Keywords:tetracene  organic crystal  physical vapor deposition
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号