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激光全息用于微电子领域发展潜力的简析
引用本文:路敦武,黄惠杰.激光全息用于微电子领域发展潜力的简析[J].激光与光电子学进展,1999(Z1).
作者姓名:路敦武  黄惠杰
作者单位:中国科学院上海光学精密机械研究所!上海,201800,中国科学院上海光学精密机械研究所!上海,201800
摘    要:激光技术已广泛应用于微电子领域大规模集成电路生产的各个环节。本文以激光全息光刻、激光全息掩模和激光干涉成像光刻为切入点,对激光全息用于微电子领域的潜力作一分析。

关 键 词:激光全息  光刻  掩模  微电子
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