激光全息用于微电子领域发展潜力的简析 |
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引用本文: | 路敦武,黄惠杰.激光全息用于微电子领域发展潜力的简析[J].激光与光电子学进展,1999(Z1). |
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作者姓名: | 路敦武 黄惠杰 |
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作者单位: | 中国科学院上海光学精密机械研究所!上海,201800,中国科学院上海光学精密机械研究所!上海,201800 |
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摘 要: | 激光技术已广泛应用于微电子领域大规模集成电路生产的各个环节。本文以激光全息光刻、激光全息掩模和激光干涉成像光刻为切入点,对激光全息用于微电子领域的潜力作一分析。
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关 键 词: | 激光全息 光刻 掩模 微电子 |
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