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| 基于无掩模光刻的高精度ITO电极湿法刻蚀工艺研究 | |
| 引用本文： | 殷艺,刘志坚,王赛杰,武森,严志军,潘新祥.基于无掩模光刻的高精度ITO电极湿法刻蚀工艺研究[J].激光与光电子学进展,2020,57(3):210-216. |
| 作者姓名： | 殷艺 刘志坚 王赛杰 武森 严志军 潘新祥 |
| 作者单位： | 大连海事大学轮机工程学院,辽宁大连116026;广东海洋大学海洋工程学院,广东湛江524088 |
| 基金项目： | 中央高校基本科研业务费专项 |
| 摘 要： | |
| 关 键 词： | 光学设计 ITO电极 湿法刻蚀 无掩模光刻 高精度 |
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