| 旋涂法涂制溶胶凝胶改性SiO2减反膜性能研究 |
| |
| 引用本文： | 沈斌,李海元,张旭.旋涂法涂制溶胶凝胶改性SiO2减反膜性能研究[J].激光与光电子学进展,2019,56(14):220-225. |
| |
| 作者姓名： | 沈斌 李海元 张旭 |
| |
| 作者单位： | 中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理重点实验室,上海,201800;中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理重点实验室,上海,201800;中国科学院上海光学精密机械研究所高功率激光物理重点实验室,上海,201800 |
| |
| 摘 要： | 运用溶胶改性和溶剂置换的方法制备以癸烷为溶剂的SiO2溶胶,通过单面旋涂方法在方形50 mm×50mm×10mm的KDP晶体基片上制备均匀性良好的膜层。使用分光光度计测试涂膜的晶体基片,涂制三倍频及基频二倍频减反膜的KDP晶体基片在378nm和835nm处的透过率峰值均大于99.5%,膜层减反射效果良好。结合过滤技术及超声波清洗技术实现了膜层制备过程中的缺陷控制,将经过缺陷控制的三倍频减反膜涂制在洁净度高的熔石英陪涂片上,并在测试前进行激光(波长为355nm,脉宽为3ns)预处理,得到的三倍频减反膜的抗激光损伤阈值为(14.0±2.1)J·cm^2。
|
| 关 键 词： | 材料 溶胶凝胶 二氧化硅 旋涂法 方形基片 缺陷控制 |
Properties of Sol-Gel-Modified SiO2 Antireflective Films by Spin Coating |
| |
| Shen Bin,Li Haiyuan,Zhang Xu.Properties of Sol-Gel-Modified SiO2 Antireflective Films by Spin Coating[J].Laser & Optoelectronics Progress,2019,56(14):220-225. |
| |
| Authors: | Shen Bin Li Haiyuan Zhang Xu |
| |
| Affiliation: | (Key Laboratory of High Power Laser and Physics,Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) |
| |
| Abstract: | Shen Bin;Li Haiyuan;Zhang Xu(Key Laboratory of High Power Laser and Physics,Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics,Chinese Academy of Sciences, Shanghai 201800, China) |
| |
| Keywords: | materials sol gel silica spin coating method square substrate defect control |
| 本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
