| 阳极氧化铝薄膜厚度测试方法的研究 |
| |
| 引用本文： | 李东栋,朱绪飞,孟大伟,肖迎红.阳极氧化铝薄膜厚度测试方法的研究[J].电子元件与材料,2005,24(12):64-66. |
| |
| 作者姓名： | 李东栋 朱绪飞 孟大伟 肖迎红 |
| |
| 作者单位： | 上海交通大学材料科学与工程学院,高温测试教育部重点实验实,上海,200030;南京理工大学化工学院,江苏,南京,210094 |
| |
| 摘 要： | 通过自制的铝电解电容器模型,利用氧化铝薄膜具有的介电性能,通过电容量法可以准确快捷地计算氧化膜的厚度,并通过显微直接观察法、电解电量法、伏安法进行了验证。得到如下结论:所用铝条样品天然氧化膜的厚度约为8.0nm;在H3PO4溶液中形成的氧化膜厚度随氧化时间变化为50～80nm;阻档层生成率1.219。
|
| 关 键 词： | 电子技术 阳极氧化铝 氧化膜 介电性能 厚度 |
| 文章编号： | 1001-2028（2005）12-0064-03 |
| 收稿时间： | 2005-07-03 |
| 修稿时间： | 2005-07-03 |
Studies on Testing Measures of the Thickness on Anodized Alumina Thin Film |
| |
| LI Dong-dong,ZHU Xu-fei,MENG Da-wei,XIAO Ying-hong.Studies on Testing Measures of the Thickness on Anodized Alumina Thin Film[J].Electronic Components & Materials,2005,24(12):64-66. |
| |
| Authors: | LI Dong-dong ZHU Xu-fei MENG Da-wei XIAO Ying-hong |
| |
| Abstract: | It was swiftly to obtain the thickness of alumina film by using of it's dielectric property and capacitor model,which was validated by means of EM,electric quantity and volt-ampere.The results show that,the thickness of natural oxide films is about 8.0 nm;the thickness of oxide films formed in H3PO4 solution is varied from 50 nm to 80 nm;r=1.219 。 |
| |
| Keywords: | electronic technology anodic aluminum oxide(AAO) oxide film dielectric property thickness |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
