首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

Si/SiGe/Si双异质结晶体管异质结势垒效应(HBE)研究
引用本文:张万荣 曾峥. Si/SiGe/Si双异质结晶体管异质结势垒效应(HBE)研究[J]. 电子学报, 1996, 24(11): 43-47
作者姓名:张万荣 曾峥
作者单位:西安交通大学电子工程系微电子学研究所
摘    要:本文研究了不同温度下Si/SiGe/Si双异质结晶体管异质结势垒效应,研究发现,集电结处价带能量差△Ev越大,HBE越明显,在给定的△Ev下,随着温度的降低,HBE越显著。

关 键 词:应变层 势垒 异质结 双极晶体管 锗化硅

Heterojunction Barrier Effects in Si/SiGe/Si Double Heteroiunction Bipolar Transistor
hang Wanrong,Zeng Zheng,Luo Jinsheng. Heterojunction Barrier Effects in Si/SiGe/Si Double Heteroiunction Bipolar Transistor[J]. Acta Electronica Sinica, 1996, 24(11): 43-47
Authors:hang Wanrong  Zeng Zheng  Luo Jinsheng
Abstract:
Keywords:SiGe strain layer  Barrier  Heterojunction bipolar transistor(HBT)Z  
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号