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离子束刻蚀位相型Ronchi光栅研究
引用本文:傅绍军,齐开国.离子束刻蚀位相型Ronchi光栅研究[J].量子电子学,1995,12(2):146-149.
作者姓名:傅绍军  齐开国
摘    要:本文报道了采用紫外光刻和离子束刻蚀方法制作位相型Ronchi光栅的工艺技术,并对其衍射特性进行了讨论,同时给出实验结果。

关 键 词:位相型  Ronchi光栅  离子束刻蚀  紫外光刻
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