| 真空灭弧室设计和制造工艺概述与发展方向 |
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| 引用本文： | 王季梅.真空灭弧室设计和制造工艺概述与发展方向[J].真空电子技术,2001(3):23-25. |
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| 作者姓名： | 王季梅 |
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| 作者单位： | 西安交通大学, |
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| 摘 要： | 介绍了真空灭弧室的基本结构，触头设计，触头材料，高电压设计的要点和制造工艺等，指出了真空灭弧室设计正向着小型化和高电压方向发展。
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| 关 键 词： | 真空灭弧室 设计 制造工艺 真空电子 |
| 文章编号： | 1002-8935(2001)03-0023-03 |
| 修稿时间： | 2000年10月23 |
Outline and Development of the Vacuum Interrupter Design and Manufacturing |
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| WANG Ji-mei.Outline and Development of the Vacuum Interrupter Design and Manufacturing[J].Vacuum Electronics,2001(3):23-25. |
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| Authors: | WANG Ji-mei |
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| Abstract: | The basic structure of vacuum interrupter,contact design,contact material,high voltage design and manufacturing technology are introduced in this paper, and the development of the compact design and high voltage design of the vacuum interrupter are discussed |
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| Keywords: | Vacuum interrupters Design Manufacturing |
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