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微波等离子体化学气相沉积超纳米晶金刚石膜研究
引用本文:李莉莉,丁明清,杜英华,蔡军,胡银富,冯进军.微波等离子体化学气相沉积超纳米晶金刚石膜研究[J].真空电子技术,2014(4):62-64.
作者姓名:李莉莉  丁明清  杜英华  蔡军  胡银富  冯进军
作者单位:微波电真空器件国家重点实验室;北京真空电子技术研究所;
摘    要:超纳米晶金刚石(UNCD)在短毫米波特别是太赫兹真空器件输能窗中具有潜在的应用价值。本文介绍了UNCD膜的制备工艺和性能表征。利用微波等离子体化学气相沉积法在一种贫氢、富氩的反应气体中合成UNCD膜。扫描电子显微镜分析表明,合成的UNCD膜表面光滑平整,晶粒为纳米尺度,断面结构致密。X射线衍射分析显示,超纳米晶金刚石薄膜主要是以(220)取向为主的多晶体结构,计算得到的平均晶粒尺寸为10nm。拉曼光谱分析呈现出典型的超纳米晶金刚石特性,膜中存在一定的sp2相。UNCD的光学透过率测试显示:在波长≥4μm范围内,光学透过率≥60%。

关 键 词:太赫兹  微波真空器件  微波等离子体化学气相沉积  超纳米晶金刚石
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