| IC晶片关键尺寸标定的新方法研究 |
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| 引用本文： | 薛向东,吴黎明,邓耀华,伍冯洁,何仲凯.IC晶片关键尺寸标定的新方法研究[J].半导体技术,2005,30(12):35-37,43. |
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| 作者姓名： | 薛向东 吴黎明 邓耀华 伍冯洁 何仲凯 |
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| 作者单位： | 广东工业大学信息工程学院,广州,510643;广东工业大学信息工程学院,广州,510643;广东工业大学信息工程学院,广州,510643;广东工业大学信息工程学院,广州,510643;广东工业大学信息工程学院,广州,510643 |
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| 摘 要： | 提出了一种基于标准件法的二次标定法,实现了对微距尺寸的高速高精度测量.该方法经过实验测量数据的分析对比,表明比标准件法测量精度有明显提高,满足了IC晶片线宽测量的精度要求.
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| 关 键 词： | 标准件 像素当量 空间矩 亚像素 尺寸标定 |
| 文章编号： | 1003-353X（2005）12-0035-03 |
| 收稿时间： | 2005-03-21 |
| 修稿时间： | 2005-03-21 |
Study on the New Method of CD Calibrating for IC Wafer |
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| XUE Xiang-dong,WU Li-ming,DENG Yao-hua,WU Feng-jie,HE Zhong-kai.Study on the New Method of CD Calibrating for IC Wafer[J].Semiconductor Technology,2005,30(12):35-37,43. |
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| Authors: | XUE Xiang-dong WU Li-ming DENG Yao-hua WU Feng-jie HE Zhong-kai |
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| Affiliation: | Information Engineering Institute, Guangdong University of Technology, Guangzhou 510643,China |
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| Abstract: | A method of twice measure based on the standard component is presented,high-accuracy measurement for micro size is obtained.Through analysis and contrast of the experimental results,this method was obviously improved the precision compared with the law of standard component,and met the wide precision demands that measures of chip line of IC. |
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| Keywords: | standard ruler per-pixel spatial moment sub-pixel size calibration |
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