| 灰度掩模技术 |
| |
| 引用本文： | 李红军,李凤有,于利民,曹颖静,卢振武,廖江红,翁志成.灰度掩模技术[J].微细加工技术,2000(1):10-15. |
| |
| 作者姓名： | 李红军 李凤有 于利民 曹颖静 卢振武 廖江红 翁志成 |
| |
| 作者单位： | 中国科学院长春精密光学机械研究所应用光学国家重点实验室,长春130022 |
| |
| 摘 要： | 二元光学被誉为“１９９０年代的光学技术”，在国防、科研、生产等领域都显示出广阔的应用前景。衍射光学元件有很多制作方法，比较成熟的有二元光学元件加工方法和激光或电子束直写技术加工方法。二元光学元件加工方法存在周期长、成本高且对准较困难的特点。激光或电子束直写技术所需设备比较昂贵，只适合高精度单件生产。介绍了近来发展起来的另一种比较有前任的加工方法一灰度掩模法，并展望了其发展前景。
|
| 关 键 词： | 二元光学 衍射光学元件 激光直写 灰度掩模 |
| 文章编号： | 1003-8213(2000)01-0002-06 |
| 修稿时间： | 1999-04-19 |
Technique of gray-scale mask |
| |
| LI Hong-jun,LI Feng-you,YU Li-min,CAO Ying-jing,LU Zhen-wu,LIAO Jiang-hong,WENG Zhi-cheng.Technique of gray-scale mask[J].Microfabrication Technology,2000(1):10-15. |
| |
| Authors: | LI Hong-jun LI Feng-you YU Li-min CAO Ying-jing LU Zhen-wu LIAO Jiang-hong WENG Zhi-cheng |
| |
| Affiliation: | LI Hong-jun
,LI Feng-you
,YU Li-min
,CAO Ying-jing
,LU Zhen-wu
,LIAO Jiang-hong
;(The State Key Laboratory of Applied Optic Changchun Institute of Optical and Fine Mechanics, Chinese Academy of Sciences,changchun 130022, China) |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Binary optics DOE BOE fabrication laser writing gray-scale mask |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
