| 高频离子源中应用等离子体化学反应引出金属离子过程中一个基本规律的研究 |
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| 引用本文： | 白桂彬,施修龄,孟昭兴.高频离子源中应用等离子体化学反应引出金属离子过程中一个基本规律的研究[J].微细加工技术,1991(1). |
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| 作者姓名： | 白桂彬 施修龄 孟昭兴 |
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| 作者单位： | 北京师范大学低能核物理研究所，北京师范大学低能核物理研究所，北京师范大学化学系 100875，100875 |
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| 摘 要： | 高频离子源中应用等离子体化学反应引出金属离子的过程中,总结出了一个基本规律——“氧化——还原——氧化”,“”—”—””,“”—”—””,……。利用此规律,解决了一批金属离子的引出问题。已引出的离子有:Re~+、W~+、Mo~+、Ta~+、Pt~+、Pd~+、Au~+、Ag~+、Nb~+、Ti~+、V~+、Cr~+、Ni~+、Fe~+、Cu~+、Zn~+、Ga~+、Ge~+、Se~+、Si~+、Al~+、Mg~+、Be~+、Li~+、Bi~+、In~+、Sn~+、Pb~+、Cd~+等和稀土离子Y~+、Nd~+、Ce~+、Sm~+、Tm~+、Dy~+、Gd~+、Er~+等。
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| 关 键 词： | 高频离子源 等离子化学反应 金属离子引出 氧化——还原 |
ON A BASIC PRINCIPLE IN THE PROCESS EXTRACTING METAL IONS BY PLASMA CHEMICAL REACTION IN HF ION SOURCE |
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| Bai Quibin Shi Xiuling Meng Zhaoxing.ON A BASIC PRINCIPLE IN THE PROCESS EXTRACTING METAL IONS BY PLASMA CHEMICAL REACTION IN HF ION SOURCE[J].Microfabrication Technology,1991(1). |
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| Authors: | Bai Quibin Shi Xiuling Meng Zhaoxing |
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| Affiliation: | Beijing Normal Univ. |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | HF Ion source Plasma chemical reaction Metal ion extraction Oxidation-Reduction |
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