首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     检索      

应用于扩散工艺中的闭管扩散技术
引用本文:向小龙,彭志虹,朱晓明,罗卫国,赵加宝,罗亮.应用于扩散工艺中的闭管扩散技术[J].微细加工技术,2006(6):63-64.
作者姓名:向小龙  彭志虹  朱晓明  罗卫国  赵加宝  罗亮
作者单位:中国电子科技集团公司第四十八研究所,长沙,410111
摘    要:介绍了一种用于晶体硅太阳能电池p-n结制造的闭管扩散技术,它主要是针对目前使用的开管扩散技术的不足而提出的,实践证明,该技术不仅扩散均匀性优,而且节源、节能、环保,同时它还可以运用于其它半导体材料的扩散掺杂工艺。

关 键 词:闭管扩散技术  扩散均匀性
文章编号:1003-8213(2006)06-0063-02

Technology of Diffusion in Closed Tube
XIANG Xiao-long,PENG Zhi-hong,WU Bo,ZHU Xiao-ming.Technology of Diffusion in Closed Tube[J].Microfabrication Technology,2006(6):63-64.
Authors:XIANG Xiao-long  PENG Zhi-hong  WU Bo  ZHU Xiao-ming
Abstract:A new diffusion technology was introduced,which the diffusion was taken place in a closed tube and used for preparation of the p-n contacts of the crystalline silicon solar cells.The technology was developed to improve the diffusion in the opening tube.The practical results have proved that the technique not only produces a uniform diffusion but also saves power and prevents from pollution,and it can be used for doping of other semiconductor materials.
Keywords:technology of diffusion in closed tube  uniformity of diffusion
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号