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| 国外离子注入机发展动态 | |
| 引用本文： | 吴明华.国外离子注入机发展动态[J].微细加工技术,1994(2):81-88. |
| 作者姓名： | 吴明华 |
| 摘 要： | 国外离子注入机发展动态随着超大规模集成电路的迅速发展，为适应中００、０．５μｍ工艺的需求，国外出现了多种新型的中束流、大束流、高能离子注入机，现将其现状介绍如下：新型中束流离子注入机大多采用平行束扫描方式、束的平行度优于０．５度。２００ｍｍ晶片内注入... |
| 关 键 词： | 离子注入机 集成电路 掺杂 平行束扫描 |
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