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| 光刻机的演变及今后发展趋势 | |
| 引用本文： | 李艳秋.光刻机的演变及今后发展趋势[J].微细加工技术,2003(2):1-5,11. |
| 作者姓名： | 李艳秋 |
| 作者单位： | 中科院电工所，北京 100080 |
| 基金项目： | 中国科学院“引进国外杰出人才”2001年资助项目 |
| 摘 要： | 微电子技术的发展一直是光刻设备和技术发展与变革的动力。通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战，揭示下一代光刻设备的发展潜力，结合比较极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点，预言将来以极紫外光刻机、电子束曝光机和某种常规光刻机结合，来实现工业需要的各种图形的制备。 |
| 关 键 词： | 光刻机 发展趋势 极紫外光刻机 电子束曝光机 微电子技术 |
| 文章编号： | 1003-8213(2003)02-0001-05 |
Lithography Tool Evolution and the Trend of Its Development |
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| Abstract: | |
| Keywords: | Next Generation Lithography(EGL) Extreme Ultraviolet Lithography(EUVL) Electron Beam Lithography microelectronics |
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