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责任编辑
分类号
杂志ISSN号
光刻机的演变及今后发展趋势
引用本文:
李艳秋.光刻机的演变及今后发展趋势[J].微细加工技术,2003(2):1-5,11.
作者姓名:
李艳秋
作者单位:
中科院电工所,北京 100080
基金项目:
中国科学院“引进国外杰出人才”2001年资助项目
摘 要:
微电子技术的发展一直是光刻设备和技术发展与变革的动力。通过介绍光刻机的演变和所面临的挑战,揭示下一代光刻设备的发展潜力,结合比较极紫外光刻机和电子束曝光机的开发现状和特点,预言将来以极紫外光刻机、电子束曝光机和某种常规光刻机结合,来实现工业需要的各种图形的制备。
关 键 词:
光刻机
发展趋势
极紫外光刻机
电子束曝光机
微电子技术
文章编号:
1003-8213(2003)02-0001-05
Lithography Tool Evolution and the Trend of Its Development
Abstract:
Keywords:
Next Generation Lithography(EGL)
Extreme Ultraviolet Lithography(EUVL)
Electron Beam Lithography
microelectronics
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