| 全内反射全息光刻技术 |
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| 引用本文： | 陈芬,冯伯儒.全内反射全息光刻技术[J].微细加工技术,1999(2):66-70. |
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| 作者姓名： | 陈芬 冯伯儒 |
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| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金,微细加工光学技术国家重点实验室基金 |
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| 摘 要： | 介绍了全内反射（ＴＩＲ）全息光刻技术的发展情况、基本原理以及其中的关键技术。
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| 关 键 词： | 全息光刻 全内反射（TIR）全息 全息掩模 全息术 |
HOLOGRAPHIC LITHOGRAPHY WITH TOTAL INTERNAL REFLECTION |
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| Chen Fen,Feng Boru,Zhang Jin,Hou Desheng.HOLOGRAPHIC LITHOGRAPHY WITH TOTAL INTERNAL REFLECTION[J].Microfabrication Technology,1999(2):66-70. |
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| Authors: | Chen Fen Feng Boru Zhang Jin Hou Desheng |
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| Abstract: | The developmental course,basic principle and key technologies of holographic lithography with total internal reflection are presented. |
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| Keywords: | Holographic lithography TIR Holography Hologram mask Holography |
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