| 光刻胶灰化技术用于同步辐射闪耀光栅制作 |
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| 引用本文： | 徐向东,周洪军,洪义麟,霍同林,陶晓明,傅绍军.光刻胶灰化技术用于同步辐射闪耀光栅制作[J].微细加工技术,2000(3):35-38. |
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| 作者姓名： | 徐向东 周洪军 洪义麟 霍同林 陶晓明 傅绍军 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学国家同步辐射实验室合肥 230029 |
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| 基金项目： | 211重点学科建设资助项目 |
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| 摘 要： | 在分析光刻胶光栅浮雕图形缺陷成因的基础上，首次将光刻胶灰化工艺引入到全息－离子束刻蚀制作闪耀光栅工艺中，并成功地为国家同步辐射实验室光化学站制作了１２００１／ｍｍ，闪耀波长为１３０ｎｍ的锯齿槽形光栅。测试结果表明光刻胶灰化处理对制作大面积优质的光刻胶光栅非常有效和实用。
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| 关 键 词： | 全息光刻 光刻胶灰化工艺 同步辐射闪耀光栅 |
| 文章编号： | 1003-8213(2000)03-0035-04 |
| 修稿时间： | 1999年11月12 |
Photoresist-Ashing Technique Used for Fabricatin Synchrotron Radiation Blazed Grating |
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| XU Xiang?dong,ZHOU Hong?jun,HONG Yi?lin HUO Tong?lin,TAO Xiao?ming,FU Shao?jun.Photoresist-Ashing Technique Used for Fabricatin Synchrotron Radiation Blazed Grating[J].Microfabrication Technology,2000(3):35-38. |
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| Authors: | XU Xiang?dong ZHOU Hong?jun HONG Yi?lin HUO Tong?lin TAO Xiao?ming FU Shao?jun |
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| Abstract: | The reason of grating line defect forming is analyzed.To eliminate these defects,the photoresist ?ashing process is applied to holographic ion beam etching technique for blazed grating manufacture.The blazed grating of 1200l/mm and blazing wavelength 130nm was successfully fabricated for the photochemistry experiment station of National Synchrotron Radiation Laboratory.The experimental result shows that photoresist?ashing technique is very useful and effective for achiving large size and good quality gratings. |
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| Keywords: | Holographic lithography Ion beam etching Photoresist?ashing technique |
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