| 微光刻技术的发展 |
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| 引用本文： | 冯伯儒,张锦,侯德胜,陈芬.微光刻技术的发展[J].微细加工技术,2000(1):1-9. |
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| 作者姓名： | 冯伯儒 张锦 侯德胜 陈芬 |
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| 作者单位： | 中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室,成都610209 |
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| 基金项目： | 得到国家自然科学基金(69776028)和科学院重点项目经费资助 |
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| 摘 要： | 阐述了光刻技术的发展及其分辨极限，对准分子激光光刻技术及其发展作了比较详细的论述。
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| 关 键 词： | 微光刻技术 准分子激光光刻 集成电路 |
| 文章编号： | 1003-8213(2000)01-0001-09 |
| 修稿时间： | 1999-03-29 |
Progress of Optical Microlithography |
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| FENG Bo-ru,ZHANG Jin,HOU De-sheng,CHEN Fen.Progress of Optical Microlithography[J].Microfabrication Technology,2000(1):1-9. |
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| Authors: | FENG Bo-ru ZHANG Jin HOU De-sheng CHEN Fen |
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| Affiliation: | FENG Bo-ru
,ZHANG Jin
,HOU De-sheng
,CHEN Fen
;(State Key Lab of Optical Technologies for Microfabrication, Institute of Optics &. Electronics, Chinese Academy of Sciences, Chengdu, 610209,China) |
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| Abstract: | The progress of optical microlithography and its resolution limit are described. The excimer laser microlithography and its development are discussed in detail. |
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| Keywords: | Optical Microlithography Photolithography Limit Excimer laser Microlithography |
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